?、俟に嚉怏w：一般在等離子清洗中，可把活化氣體分為兩類，一類為惰性氣體的等離子體（如Ar2、N2等）：另一類為反應性氣體的等離子體（如O2、H2、含氟氣體等）。以氬等離子為例，在一個物理過程中，在氬等離子中產(chǎn)生的離子會以足夠的能量輻射表面，去掉表面污物。帶正電的氬等離子將被吸引到在真空艙體的負極板。由于高能等離子撞擊，撞擊力足以去除表面上的任何污垢，隨后污垢通過真空泵以氣體形式排出。

　?、跉怏w流量：工藝艙體壓力與氣流速度、產(chǎn)品排氣率和泵速成函數(shù)關系。艙體內(nèi)氣體接入量的不同，造成產(chǎn)生等離子體的密度不同，從而影響處理效果。

　?、酃β剩和ㄟ^提高等離子清洗機處理的功率，可增加等離子體的密度和能量，從而加快等離子處理的速度。等離子體密度是單位體積內(nèi)所包含的等離子體的數(shù)量。等離子體能量定義了等離子體進行表面物理轟擊的能力。

　?、軙r間：工藝時間的長短與功率、氣體流量和氣體類型相關。以在PBGA基板上提高引線的鍵合能力為例，一個短時間的等離子處理，引線的鍵合強度相對于未處理前只提高了2%：但是將處理時間增加1/3，引線的鍵合強度將比未處理前提高20%。這里應該指出的是，過長的工藝時間并不總是可以提高材料的表面活性。從提高生產(chǎn)效率這方面出發(fā)，還應盡量減少工藝時間，這在大批量生產(chǎn)中尤為重要。

　　實際上，在整個等離子處理過程中，影響處理效果的要素還包括過程溫度、氣體分配、真空度、電極設置、靜電保護等等。

　　等離子清洗機表面處理處理工藝的特點是能對任何材質(zhì)的材料進行處理，如金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子有機聚合物（聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、聚四氟乙烯）等材料，并可實現(xiàn)整體、局部和復雜結(jié)構(gòu)的表面處理。處理后的重要效果之一是提高基材表面的活性（附著力）。不同的元器件和材料在進行等離子處理時，需要根據(jù)具體情況和實驗數(shù)據(jù)制定適合的相關工藝。